本周，欣奕華先進材料事業(yè)群在北京、阜陽兩地同步召開了以“尊重技術(shù)，堅持創(chuàng)新”為主題的科技創(chuàng)新大會，共有10名專家、80多名科研人員與會。在此次創(chuàng)新大會主要圍繞先進材料事業(yè)群在光刻膠領(lǐng)域方面（顯示光刻膠的開發(fā)、IC光刻膠技術(shù)、OLED材料）以及醫(yī)藥材料等領(lǐng)域的領(lǐng)先技術(shù)進行了專家分享。

會上，欣奕華集團董事長王彥軍對先進材料事業(yè)群在面對前所未有的復(fù)雜環(huán)境下，持續(xù)堅持材料技術(shù)國產(chǎn)化，聚焦泛半導(dǎo)體領(lǐng)域，刻苦攻關(guān)，保證顯示光刻膠產(chǎn)品出貨量繼續(xù)穩(wěn)居國內(nèi)榜首；OLED材料在大尺寸驗證通過，自主結(jié)構(gòu)設(shè)計方面也申報了大量專利，布局了具有戰(zhàn)略意義的半導(dǎo)體光刻膠；低溫光刻膠、高折射Ink、PDL材料等新方向也在積極規(guī)劃孵化中；制藥業(yè)務(wù)，產(chǎn)品生產(chǎn)工藝技術(shù)穩(wěn)步提升，CMO業(yè)務(wù)有序推進等科研成績表示了肯定與鼓勵。

大會特別對科研項目和專利貢獻突出的科研人員（共計13名）進行了獎勵，鼓勵這些科技工作者在今后的工作中繼續(xù)創(chuàng)造新佳績。

此次創(chuàng)新大會圓滿成功舉行，不僅展示了欣奕華在新材料領(lǐng)域上9年來的成果，也讓員工們了解到科研是無止境的，必須始終尊重技術(shù)，堅持創(chuàng)新，穩(wěn)步發(fā)展，希望廣大研發(fā)人員立足攻關(guān)項目，爭做創(chuàng)新尖兵，勇闖技術(shù)“無人區(qū)”，著力解決各類“卡脖子”瓶頸技術(shù)難題，為公司的技術(shù)跨越發(fā)展奉獻智慧和力量！